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掩膜支撑与对准装置
掩膜支撑与对准装置用于制备高精度微纳电子器件，具有以下优点：1，我们的专利设计实现掩膜板对准零误差；2，掩膜板与衬底间距小至50微米，有效减小阴影效应（小于2微米）；3，可在高达1000℃高温条件下使用；4，最小可兼容标准Omicron旗式样品托（19 mm × 21 mm）；5，可根据客户需求，定制样品托尺寸，最大可达晶圆级。
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